基于多孔硅支架的鈦鋯釩非蒸散型吸氣劑薄膜的制備及表征

摘要： 非蒸散型吸氣劑薄膜近年以來在真空領(lǐng)域受到廣泛的研究與應(yīng)用,但有限的吸氣速率和吸氣容量阻礙了其進(jìn)一步的發(fā)展。文章使用雙槽電化學(xué)腐蝕法制備了多孔硅支架,再經(jīng)過直流磁控濺射沉積了非蒸散型鈦鋯釩吸氣劑薄膜,獲得三維結(jié)構(gòu)薄膜吸氣劑。通過高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡、熱重分析、真空吸氫測(cè)試分別對(duì)薄膜的形貌和吸氣性能進(jìn)行了研究。吸氫性能測(cè)試結(jié)果表明,沉積在硅片與多孔硅支架上的400 nm厚度的...